智东西
编译 | 梁颖琳
剪辑 | 云鹏智东西4月10日音信，据《首尔经济日报》报谈，三星电子近日书记起始“梦思制程（꿈의 반도체 공정）”1nm芯片研发，预测2029年后达成量产，旨在通过颠覆性时期突破追逐台积电（TSMC）。
三星电子正在为下一代半导体时期发起总攻，这艳丽着韩国巨头正在向比2nm更先进的制程时期迈进。尽管现时在3nm、2nm节点过期于台积电，但三星谋略通过颠覆性时期阶梯在2029年后达成1nm工艺量产，认识直指AI芯片市集的爆发式增长需求。
一、冲突策画框架：1纳米节点的时期变嫌1nm节点需要透澈突破现存芯片策画框架，触及高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）等下一代开辟的全面导入。
三星里面已将部分参与2nm研发的工程师调任至1nm姿色组，裸走漏对该姿色的计策疼爱。
现在三星公开的最新制程阶梯图裸露，2027年谋略量产的1.4nm工艺仍是其起先进节点，而台积电已于客岁书记将在2026年下半年起始1.6nm工艺量产，时期代差仍客不雅存在。
二、制程良率差距拉大，三星加快时期解围三星在3nm和2nm工艺上与台积电存在时期差距，台积电的2nm工艺良率一经疏淡60%，而三星的良率相对较低。
三星电子副会长李在镕上月十分强调“继承时期优先传统”，条件处置层“用寰球不存在的时期创造以前”。
这一表态被解读为对制程竞赛受挫的危急应酬，亦然鼓吹1nm提前研发的径直动因。
此外，三星还在加大研发参加，谋略引入高数值孔径EUV光刻开辟，以期在1nm制程上达成时期突破，从而在以前的AI芯片市齐集从头配置最初地位。
三、AI芯倏得间竞赛下，时期代差成新筹码跟着AI检修算力需求每6个月翻倍，芯片制程的突破成为决定性身分。
台积电通过新增1.6nm节点霸占过渡期市集，而三星采用径直跳动至1nm，试图通过时期代差达成弯谈超车。
三星代工行状部新任社长韩进满近期密集走访DeepX等原土AI芯片初创企业，裸露其正加快构建产业协同。
结语：制程创新能否重塑竞争阵势？从现时3nm节点的良率差距，到2nm节点可能扩大的时期代差，三星的1nm计策既是时期追逐，亦然旅途重塑。
高数值孔径EUV开辟的引入将使单片晶圆本钱显赫加多，这种“烧钱式”时期竞赛可能重塑众人代工市集阵势。
关于AI芯片开发商而言，制程节点的突破不仅是性能教育，更是决定以前算力生态的枢纽变量。
黑丝av当台积电在2026年起始1.6nm量产时，三星能否在2029年用1nm工艺扭转战局，这场时期竞走的输赢或将在以前三年见分晓。
源泉：首尔经济日报、Samsung Newsroom91porn telegram